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GizTab | December 14, 2018

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Wall dress, proyecto ganador de Samsung EGO Innovation, combina moda, tecnología y arquitectura

Wall dress, proyecto ganador de Samsung EGO Innovation, combina moda, tecnología y arquitectura

Samsung EGO Innovation Project, el certamen que une moda y tecnología, ha nombrado ganador de su octava edición a la firma ZAP & BUJ por su proyecto Wall dress. Se trata de una interesante propuesta que convierte planos arquitectónicos en patrones de moda. Este proyecto, que verá la luz el próximo 19 de septiembre sobre la pasarela Samsung EGO, presenta una nueva forma de comprender la arquitectura y la moda dentro del mismo campo.

Elena Zapico y Raquel Buj son las mentes creativas tras la firma ZAP & BUJ: Dos arquitectas cuyas carreras han creado sinergias con el mundo de la moda. En 2017 co-fundan su propia marca de moda con la firme convicción de la necesaria confluencia entre moda y arquitectura. La colección, que descansa bajo el nombre Wall dress, se presentará sobre la pasarela configurándose como la primera de la firma.

Wall dress aproxima la arquitectura al cuerpo haciendo posible la recuperación de la cercanía y conexión entre ambos que se ha ido desvaneciendo en los espacios que habitamos. La propuesta presenta una serie de paneles arquitectónicos en forma de muros o veladuras que se convierten en vestidos a través de la tecnología y el uso de tejidos y materiales con memoria de forma (MSP y MSA).

La firma propone un proyecto en el que han trabajado dentro del campo de la creación y fabricación digital de nuevas pieles: materiales que se adaptan a la forma del cuerpo al recibir un estímulo de calor. Para el desarrollo de la parte tecnológica de la propuesta, ZAP & BUJ ha colaborado con Aitex, centro de referencia de investigación, innovación y servicios técnicos avanzados para el sector textil y la confección de textiles técnicos y con el Instituto de Ciencia y Tecnología de Polímeros del CSIC.

Samsung EGO Innovation Project ha premiado a la firma ZAP & BUJ con una dotación económica de 10.000€ para el desarrollo de su proyecto. “Ganar este certamen ha sido una inyección brutal de ilusión y energía para nosotras”, comentan Elena Zapico y Raquel Buj:

 “Nos movemos en un campo de investigación (arquitectura, moda, diseño…) que no es habitual en moda, y que alguien más lo considere tan interesante, como para enseñarlo en pasarela es un sueño “.

Sobre la pasarela se presentará una interesante reflexión a modo de diálogo entre arquitectura y moda, dos disciplinas que se conectan en este proyecto mediante innovadores procesos de adaptación gracias a materiales con memoria de forma. Siete planos arquitectónicos flotantes sobre la pasarela se deslizarán delicadamente sobre las modelos convirtiéndose así en patrones de moda.

Por su parte, Luis de la Peña, director de marketing de la división IM de Samsung España, ha comentado que “un año más, el talento y creatividad de los jóvenes creadores ha vuelto a sorprendernos y a descubrirnos nuevas posibilidades en la unión de diseño y tecnología. El proyecto de Elena Zapico y Raquel Buj destaca por su visión de futuro y por la originalidad de su concepto, lo que le hace justo merecedor del premio Samsung EGO Innovation Project”.


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Samsung y el mundo de la moda

El vínculo entre moda y tecnología que lidera Samsung desde hace años se hace patente en una nueva edición del mayor evento de moda a nivel nacional. Mediante su apoyo a proyectos innovadores de jóvenes creadores, Samsung explora nuevas dimensiones en el diseño y la tecnología aplicados al campo de la moda. Por novena edición consecutiva, la firma tecnológica participa en la semana de la moda madrileña, en su apuesta por seguir hallando nexos entre moda y tecnología para poder incorporar dichas mejoras a la vida cotidiana de las personas.

El certamen Samsung EGO Innovation Project premia los proyectos de diseñadores emergentes que unen moda y tecnología en cualquiera de sus fases de creación. La colección presentada por la canadiense Ying Gao supuso el arranque de este certamen, en el que han resultado ganadores jóvenes diseñadores como Leandro Cano o Pepa Salazar en 2014 o Rubén Gómez y María Glück en 2015. En 2016, Light & Shines de Virginia Vallejo fue la propuesta galardonada en febrero y en septiembre ABRA de la firma Abrahamsson; así como Wellness presentó su colección Hiperasia el pasado febrero y será posible disfrutar de la última propuesta ganadora Wall dress de ZAP & BUJ el próximo 19 de septiembre.

Además de prestar su apoyo a estos jóvenes creadores, Samsung ha colaborado con grandes firmas nacionales como son Alvarno, Maria ke Fisherman, Juan Vidal, Amaya Arzuaga o Ángel Schlesser, para la creación de diseños para sus smartwatches y smartphones inspirados en sus colecciones o colaboraciones como la del desfile SMARTgirl by Samsung de Duyos en febrero de 2017.

Todo ello conforma el apoyo de Samsung al diseño español y una gran apuesta por la innovación, explorando nuevas sinergias y llevando la innovación hacia nuevos límites.

Sobre ZAP & BUJ

Elena Zapico y Raquel Buj son las fundadoras de ZAP & BUJ, Fashion and Architecture. Ambas tienen formación como arquitectas y diseñadoras de moda y creen firmemente en la confluencia de ambas disciplinas. En 2015 se conocen cursando estudios de postgrado de especialización en Arquitectura, Moda y Diseño en la ETSAM. Allí aprenden herramientas como diseño paramétrico y patronaje y comienzan a unir intereses. Elena Zapico ha trabajado profesionalmente en el mundo de la moda colaborando con varios diseñadores de reconocido prestigio como Sybilla y tiene amplia experiencia como coordinadora de desfiles. Raquel Buj ha co-fundado su propio estudio de arquitectura cuyas obras han sido premiadas internacionalmente y realiza estudios de doctorado sobre la relación entre arquitectura y moda. ZAP & BUJ es una plataforma en la que trabajan desde la experimentación en taller con nuevos materiales y herramientas digitales que posibiliten esos acercamientos entre la arquitectura y la moda.

Elena Perez

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